利用鋁離子的三種機理來去除氟離子，即：

　　(1)吸附。鋁鹽絮凝除氟過程中生成的具有很大表面積的無定性Al(OH)3(am)原體對氟離子產生氫鍵吸附，氟離子半徑小，電負性強，這一吸附方式很容易發生。

 

　　(2)離子交換。氟離子與氫氧根的半徑及電荷都相近，鋁鹽絮凝除氟過程中，投加到水中的A113O4(0H)147+等聚陽離子及水解后形成的無定性Al(0H)3(am)沉淀，其中的OH-與F-發生交換，這一交換過程是在等電荷條件下進行的。

 

　　電子行業含氟廢水處理的工藝：

　　此工藝采用的就是傳統的石灰沉淀法，原理是鈣離子和氟離子會生成難溶的氟化鈣沉淀，但是石灰乳因為氫氧化鈣難溶的特性，所以在水中的解離程度很小。

 

　　而氯化鈣的溶解度大，提高水中的鈣離子使生成氟化鈣的化學平衡右移，從而提高氟的去除率。

 

　　但是對于含氟很高的廢水有時候單單石灰沉淀法是去除不到標準的，因此在石灰沉淀后再設PAC沉淀，一方面是對上一段出水較難沉淀的氟化鈣進行絮凝沉淀處理；

 

　　另一方面，PAC對于氟離子亦有去除作用，其機理比較復雜，主要有吸附、離子交換、絡合沉降三種作用機理，在此不深入研究。

 

　　因此，通過兩步的物理處理手段，一般可達到處理目標。需要注意的是，處理過程中產生的污泥要交由有資質的處理單位處理或者回收等。