半導體集成電路技術就是以半導體為生產材料，制作成組件及集成電路的技術。在周期表里的元素，依照導電性大致可以分成導體、半導體與絕緣體三大類。常見的半導體是硅（Si）,當然半導體也可以是兩種元素形成的化合物，例如砷化鎵，但化合物半導體大多應用在光電方面。

“氟”在半導體制造過程中被廣泛使用是因為氟是比較強的氧化物，因為較強的氧化性，它在清洗和蝕刻工藝中成為首要選擇,氟被使用勢必會產生含氟廢水，如何有效對含氟廢物進行合理處置，減少其不必要的排放帶來的環境污染和生態破環，降低其可能對動植物及人體的不良影響極為重要，GMS-F4和GMS-F6型除氟劑對半導體含氟廢水可有效處理，出水穩定達標。

芯片的制造涉及以順序的方式執行的許多處理步驟。每一步改變了晶片表面的一些特征來定義電氣特性。主要步驟包括的氧化物或多晶硅層作為絕緣體或導體，摻雜來改變電氣特性的成長，另外的金屬層以形成電接觸，光刻步驟，在晶片表面上創建掩模，蝕刻去除的材料，平坦化除去材料，平滑該晶片表面。

在半導體制程清洗、濕法刻蝕等工序中，半導體廠商均會使用有毒qing氟*酸、氟化銨，在干法蝕刻使用其他多種含氟化合物，例如四氟化碳、四氟化硅等等。qing氟*酸廢水在兩個主要領域產生。濕法蝕刻和薄膜：qing氟*酸被用來蝕刻晶片。整個工藝過程所使用的含氟化學品將形成含氟廢水進入qing氟*酸處理系統，其中主要污染物為PH、氟化物、SS。有“氟”有環瑞，環瑞除氟劑助力半導體含氟廢水處理，為半導體制造業發展保價護航！！