在我國的發展過程中，半導體行業是新出現并快速進步的一個生產行業，其主要應用于電子機械制造中。提高半導體行業的生產水平，對我國未來的發展有重要的意義。

在半導體行業的生產過程中，由于酸洗作業和濕法刻蝕工序等使用氫氟酸、氟化銨等物料，進而會產生有氟離子的廢水。這類含氟廢水通常為工藝二道、三道清洗水，具有水量大、雜質較少、進水呈酸性（pH約為1—3）等特點。

所以進行半導體行業含氟廢水處理，是我國面臨的一項重要問題，想要使我國半導體行業更加環保，使半導體行業生產過程中的廢水得到合理有效的處理，就要選對處理方法，從而事半功倍。

現有技術常采用加鈣沉淀，但加鈣一般只能將水中的氟離子去除到10-20mg/l，無法滿足現有排放標準，且存在加藥量大、污泥產量高、水中殘留的鈣離子結垢對后續工藝造成損害等問題。

深度除氟劑可以彌補加鈣沉淀法的不足，實現低濃度含氟廢水處理。處理效果可以達到0.5ppm以下，是眾多企業青睞的除氟藥劑。與其他市面產品不同，深度除氟劑不含鈣質，長期使用不會造成管道、閥體結垢、堵塞現象；此外深度除氟劑有8款產品，種類多、產品系統體系完善，針對不同水質，可以匹配不同類型的藥劑，滿足客戶的定制化需求。